专利
一种氮化物发光器件及其制备方法,申请号:200920111571.1
一种p-GaN低阻欧姆接触的制备方法,申请号:200710009955.3
一种氮化镓基发光二极管外延片结构及其制备方法,申请号:200710009956.8
大功率半导体微腔发光二极管,申请号:200910110947.7
氮化物分布布拉格反射镜及其制备方法,申请号:200910110946.2
一种改善p型氮化镓薄膜电学特性的方法,申请号:201510018419.4
一种氮化物发光器件及其制备方法,申请号:200920111571.1
一种p-GaN低阻欧姆接触的制备方法,申请号:200710009955.3
一种氮化镓基发光二极管外延片结构及其制备方法,申请号:200710009956.8
大功率半导体微腔发光二极管,申请号:200910110947.7
氮化物分布布拉格反射镜及其制备方法,申请号:200910110946.2
一种改善p型氮化镓薄膜电学特性的方法,申请号:201510018419.4
厦门大学电子科学与技术学院(国家示范性微电子学院)
微纳光电子研究室: http://zbp.xmu.edu.cn
联系电话/传真: 0592-2180149
E-mail:bzhang@xmu.edu.cn